再往后到了2017年的時候，英特爾將為我們帶來7nm，這也是半導(dǎo)體工藝第一次進(jìn)入個位數(shù)時代。至于2019年到底采用何種工藝，英特爾仍在研究之中。

半導(dǎo)體制造技術(shù)的研究方向

為了保證這種穩(wěn)定而快速的前進(jìn)腳步，英特爾時刻都在關(guān)注和選擇最新的半導(dǎo)體制造技術(shù)，未來幾年的主要研究對象有3-D三柵極晶體管、III-V族復(fù)合物、光學(xué)互連、計算光刻、高K鍺、原材料合成、高密度內(nèi)存、納米線等等。

目前的關(guān)注重點(diǎn)

互連方面亟待革新

多重選擇

十幾年下來，英特爾工藝的每次升級都能帶來30-40％的進(jìn)步幅度，強(qiáng)大的研發(fā)實(shí)力令人羨慕，摩爾定律的神話也一直被延續(xù)下來。也許正如英特爾說的那樣：“摩爾定律并不是自然規(guī)律，而是一種持續(xù)創(chuàng)新的期望。”

zhabin