Tempus(圖片:Cadence)

IR壓降引發(fā)的“雪崩效應(yīng)”

“先進(jìn)節(jié)點環(huán)境下,IR壓降對時序分析有很大影響?!膘菰萍夹酒呒壙偙O(jiān)柴菁表示,為了確保AI芯片設(shè)計達(dá)到最高的可靠性,設(shè)計人員不但需要精確的進(jìn)行IR壓降分析,還需要設(shè)計工具能夠自動檢測并修復(fù)IR壓降問題,實現(xiàn)更快的開發(fā)時間和PPA獲益,避免流片前的失效。

IR壓降分析是一項關(guān)鍵的簽核技術(shù),這是毋庸置疑的。但有意思的是,在傳統(tǒng)的設(shè)計流程或是成熟工藝?yán)铮╇娡暾詥栴}其實并沒有得到如此之高的重視。通常情況下,設(shè)計人員會在整個設(shè)計流程的收尾階段進(jìn)行供電完整性驗證,如果出現(xiàn)了較大的IR壓降問題再著手進(jìn)行修復(fù)。

但在先進(jìn)節(jié)點和日趨復(fù)雜的芯片架構(gòu)環(huán)境下,一方面,如果布線的供電電壓出現(xiàn)明顯降低,將導(dǎo)致與之相連的邏輯單元性能下降,并由此引發(fā)“雪崩效應(yīng)”,導(dǎo)致整個模塊性能下降。另一方面,由于熱密度在逐漸變大,導(dǎo)致局部IR壓降的不確定性也在變大,如果仍然在流程末尾才進(jìn)行供電完整性分析,出現(xiàn)芯片設(shè)計無法修復(fù)的現(xiàn)象將成為大概率事件。

除此之外,面對一些針對高性能項目,設(shè)計師還要關(guān)注局部關(guān)鍵路徑的時序狀況,這和傳統(tǒng)時序分析中的全局時序分析又有所不同。因為即便將整體供電電壓降低10%(相比之下,IR壓降通常以5%為臨界點),也很難尋找出那些因IR壓降問題而讓時序變得敏感的路徑,而這些恰恰是影響一顆高性能芯片能否達(dá)到設(shè)計目標(biāo)的關(guān)鍵所在。

如果再具體到數(shù)字設(shè)計和簽核工具上,以Cadence為例,針對信號完整性問題,Cadence推出了Tempus時序分析工具;針對供電完整性問題,Voltus功耗分析工具可以勝任。在先進(jìn)工藝設(shè)計中,兩個分析工具之間的反復(fù)切換看似沒有什么問題,但實際上,由于兩者是分別進(jìn)行計算和修復(fù),常常會導(dǎo)致出現(xiàn)“按下葫蘆起了瓢”的現(xiàn)象,很難同時兼顧時序和供電問題,導(dǎo)致反復(fù)修改,浪費時間。

雙引擎找到電壓降的最優(yōu)路徑

于是,在2019年11月,Cadence發(fā)布了Tempus電源完整性解決方案,這是業(yè)界率先推出的靜態(tài)時序/信號完整性和電源完整性分析工具,幫助工程師在7nm及更小節(jié)點創(chuàng)建可靠設(shè)計。

Tempus電源完整性解決方案集成了業(yè)界廣泛使用的Cadence Tempus時序簽核解決方案與Voltus IC電源完整性解決方案,為簽核流程提供了實時電壓降協(xié)同仿真。使用這款工具,用戶可以在不犧牲簽核質(zhì)量的前提下大幅降低IR壓降設(shè)計余量,優(yōu)化功耗和面積,減少工程量并加快設(shè)計收斂。早期使用案例表明,Tempus電源完整性解決方案可以正確識別IR壓降錯誤,在流片前預(yù)防出現(xiàn)硅片故障,并將硅片最大頻率提高10%。

該工具的其他主要優(yōu)勢還包括:

在隨后的2020年3月,Cadence又發(fā)布已經(jīng)過數(shù)百次先進(jìn)工藝節(jié)點成功流片驗證的新版Cadence數(shù)字全流程,支持機器學(xué)習(xí)(ML)功能的統(tǒng)一布局布線和物理優(yōu)化引擎等多項業(yè)界首創(chuàng)技術(shù),吞吐量最高提升3倍,PPA最高提升20%。細(xì)化到優(yōu)化簽核收斂方面,數(shù)字全流程采用統(tǒng)一的設(shè)計實現(xiàn),時序簽核及電壓降簽核引擎,通過所有物理,時序和可靠性目標(biāo)設(shè)計的同時收斂來增強簽核性能,幫助用戶降低設(shè)計裕度,減少迭代。

而為了更好的推進(jìn)RTL-to-GDS全流程自動優(yōu)化,提高整個設(shè)計團隊的工作效率,尤其是解決初學(xué)者在設(shè)計工作中遇到的巨大挑戰(zhàn)。2021年7月,Cadence在自身廣泛數(shù)字解決方案中增加了首款基于機器學(xué)習(xí)的設(shè)計工具Cerebrus,與Genus Synthesis Solution綜合解決方案、Innovus Implementation System設(shè)計實現(xiàn)系統(tǒng)、Tempus Timing Signoff Solution時序簽核解決方案中的數(shù)十步流程實現(xiàn)無縫對接,實現(xiàn)了更快的流程優(yōu)化。

結(jié)語:

選擇7nm及以下的先進(jìn)設(shè)計,都是為了最求更高的頻率、更低的功耗或更小的面積。為了在不超出功耗限制或妥協(xié)電源完整性的前提下達(dá)到高頻率需求,電氣和物理簽核收斂必須足夠精確。

因此,在過去幾年里,從Genus綜合解決方案提供的RTL綜合平臺,到面向先進(jìn)節(jié)點設(shè)計的Innovus設(shè)計實現(xiàn)平臺,再到流程下游的電氣簽核技術(shù)(包括Tempus時序簽核解決方案的靜態(tài)時序分析功能、面向電源及IR壓降簽核的Voltus IC定制化電源完整性解決方案)和Pegasus驗證系統(tǒng),Cadence對由設(shè)計實現(xiàn)和簽核技術(shù)組成的數(shù)字全流程進(jìn)行了全面的重新開發(fā),以應(yīng)對先進(jìn)節(jié)點設(shè)計帶來的挑戰(zhàn)。目前,Cadence數(shù)字全流程在所有先進(jìn)FinFET節(jié)點被廣泛采納,7nm及以下節(jié)點已成功流片200+。

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