第2天:7月21日
第二天是側(cè)重于技術(shù)與應用實踐的“全球閃存技術(shù)峰會”，匯聚眾多技術(shù)大牛，講解最前沿、最有發(fā)展前景的技術(shù)話題。
技術(shù)峰會全天共有八場技術(shù)論壇，預計將呈現(xiàn)超過六十場技術(shù)演講，共計1800分鐘的技術(shù)干貨。大會公開征集到了數(shù)十位國內(nèi)外閃存和半導體產(chǎn)業(yè)技術(shù)專家，還有高校和科研院所的教授參與其中，足見業(yè)界對于閃存與存儲半導體的關(guān)注熱度。
全球閃存技術(shù)峰會內(nèi)容非常豐富，話題涉及閃存介質(zhì)、閃存制造、固態(tài)硬盤、閃存控制器、存儲模塊、閃存測試、新一代存儲器技術(shù)與應用、以及全閃存存儲系統(tǒng)等方面。
截至目前，已確定的演講嘉賓來自清華大學、華中科技大學、山東大學、國防科技大學、重慶大學，以及國家計算機質(zhì)檢中心等機構(gòu)，以及來自英特爾、三星、SK海力士、美光、浪潮、華為、聯(lián)想、Marvell、華瀾微、Memblaze、紫光存儲、StarBlaze、Mellanox、Calpso、ADATA、Innodisk、賽靈思、英韌、Kazan Networks、華云網(wǎng)際等數(shù)十家知名企業(yè)的頂尖技術(shù)專家。
全球閃存技術(shù)峰會還得到了四家權(quán)威機構(gòu)的鼎力支持，進一步提升了大會內(nèi)容的深度與廣度，中國計算機學會存儲專委會策劃并出品新一代存儲器技術(shù)及應用論壇，武漢光電國家研究中心出品閃存可靠性與測試技術(shù)論壇，SNIA（全球網(wǎng)絡存儲工業(yè)協(xié)會）出品全球閃存關(guān)鍵技術(shù)發(fā)展趨勢論壇，湖北省半導體行業(yè)協(xié)會出品新一代存儲介質(zhì)制造論壇。
7月20日-21日，全球閃存與存儲半導體產(chǎn)業(yè)領(lǐng)袖、技術(shù)專家和學者云集武漢市光谷科技會展中心，近百場高品質(zhì)演講和展覽展示活動正在緊張籌備中，期待您的關(guān)注！
武漢東湖新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)，簡稱“東湖高新區(qū)”，別稱“中國·光谷”，成立于1988年，如今的中國光谷已形成了涵蓋設計、制造、封裝等完整的集成電路產(chǎn)業(yè)鏈，是國家四大集成電路產(chǎn)業(yè)基地之一。武漢光谷的未來發(fā)展愿景是要建設世界一流集成電路產(chǎn)業(yè)園，具備產(chǎn)業(yè)、人才、創(chuàng)新、空間、金融和產(chǎn)業(yè)生態(tài)等六大基礎(chǔ)。
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