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擲地有聲的驚世之作:IBM展示154TB磁帶

ZDNet存儲(chǔ)頻道 發(fā)表于:14年05月20日 10:00 [綜述] DOIT.com.cn

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[導(dǎo)讀]IBM與富士膠卷已經(jīng)公布一款154TB LTO磁帶庫(kù)的演示方案,并將在未來(lái)十年內(nèi)正式投放市場(chǎng)。盡管這一容量水平低于索尼的185TB,但憑借著自身強(qiáng)大的磁帶合作關(guān)系網(wǎng)、IBM完全有機(jī)會(huì)將索尼一舉逐出角斗擂臺(tái)。

IBM與富士膠卷已經(jīng)公布一款154TB LTO磁帶庫(kù)的演示方案,并將在未來(lái)十年內(nèi)正式投放市場(chǎng)。

盡管這一容量水平低于索尼的185TB,但憑借著自身強(qiáng)大的磁帶合作關(guān)系網(wǎng)、IBM完全有機(jī)會(huì)將索尼一舉逐出角斗擂臺(tái)。

索尼開(kāi)發(fā)的解決方案擁有每平方英寸148Gb的存儲(chǔ)密度,這意味著其磁帶設(shè)計(jì)成果足以在無(wú)需壓縮技術(shù)的輔助下實(shí)現(xiàn)185TB容量。IBM則一直與富士膠卷公司對(duì)現(xiàn)有鋇鐵磁帶進(jìn)行改進(jìn),并最終實(shí)現(xiàn)了每平方英寸85.9Gb的優(yōu)秀成績(jī)。

IBM方面表示,其研究人員已經(jīng)開(kāi)發(fā)出:

新的強(qiáng)化寫(xiě)入?yún)^(qū)頭技術(shù)能夠使用更為精細(xì)的鋇鐵氧化物顆粒。

先進(jìn)的伺服控制技術(shù)能夠讓磁頭實(shí)現(xiàn)納米級(jí)別的準(zhǔn)確定位,從而允許新方案的軌道密度達(dá)到現(xiàn)有LTO6格式的28倍。

新的信號(hào)處理算法使運(yùn)行狀態(tài)更為可靠,同時(shí)配備極為精密的90納米磁巨阻磁頭(簡(jiǎn)稱(chēng)GMR)讀取機(jī)制。

來(lái)自蘇黎世的IBM研究人員們自2002年開(kāi)始就一直在與富士膠卷通力合作,旨在將磁帶存儲(chǔ)密度推向新的高度。直到 2012年,我們才接觸到125TB磁帶項(xiàng)目,其單位存儲(chǔ)密度為每平方英寸100Gb。2010年,擁有35TB原始容量的磁帶首次得到證實(shí)——相比之 下,如今的LTO-6磁帶庫(kù)只提供21.5TB原始容量。

存儲(chǔ)密度的步步提升依賴(lài)于更加小巧的磁性顆粒、更狹窄的磁軌(意味著同樣尺寸的磁帶中能夠容納更多磁軌)再加上更優(yōu)秀的讀取:寫(xiě)入磁頭以完成以這些磁軌為核心的讀出寫(xiě)入操作。在此次公布的154TB展示方案中,讀取磁頭的寬度僅為90納米。

 

INSIC 2012至2022年國(guó)際磁帶存儲(chǔ)路線(xiàn)圖第51頁(yè)圖表修改版

感興趣的朋友可以點(diǎn)擊此處并前往第51頁(yè)查看這份圖表的原始版本(PDF格式)。

IBM公司的研究人員自信能夠利用濺射介質(zhì)進(jìn)一步突破每平方英寸85.9Gb存儲(chǔ)密度水平,但他們表示“只有低成本顆粒介質(zhì)的潛力被充分發(fā)揮之后”才轉(zhuǎn)向這條道路。

索尼的185TB磁帶研究項(xiàng)目確實(shí)使用了濺射介質(zhì)與“一套全新真空薄膜成形系統(tǒng),能夠?qū)⒓{米晶層均勻地鋪成厚度不足5微米的單層。”

濺射是一種處理工藝,即讓來(lái)自原料源片的原子飛濺并射向真空空間內(nèi)的靶(基片)原料處,過(guò)程中源片需要受到高能粒子的轟擊。這種自由原子會(huì)對(duì)首先觸及的表面進(jìn)行侵蝕。

IBM公司在聲明中提供了一份圖片,可以看到這項(xiàng)全新磁帶技術(shù)將于2024年投放市場(chǎng)。

評(píng)論

我們的觀(guān)點(diǎn):配備LTO連接機(jī)制,IBM研發(fā)的這項(xiàng)技術(shù)能夠有效對(duì)抗索尼公布的令人印象深刻的185TB磁帶存儲(chǔ)方案。預(yù)計(jì)再經(jīng)過(guò)一系列LTO容量迭代,我們很可能在LTO-22中實(shí)現(xiàn)154TB這一革命性成績(jī)。

不過(guò)如果IBM所提供的圖表及其2024發(fā)展數(shù)據(jù)準(zhǔn)確無(wú)誤,那么LTO迭代(一般來(lái)說(shuō)每三十個(gè)月?lián)Q代一次)將帶來(lái)超過(guò)雙倍的容量提升。

由此推論可知:如果磁帶密度能夠每三十個(gè)月實(shí)現(xiàn)容量倍增,那么它的密度發(fā)展步伐將把磁盤(pán)遠(yuǎn)遠(yuǎn)甩在身后、并成為歸檔存儲(chǔ)介質(zhì)的不二選擇。

[責(zé)任編輯:朱朋博]
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