東芝擴(kuò)建閃存工廠 希望突破NAND容量限制
ZDNet 發(fā)表于:13年07月10日 14:00 [轉(zhuǎn)載] 至頂網(wǎng)
東芝公司已經(jīng)表示將對(duì)位于日本三重縣四日市的Fab 5 NAND制造工廠進(jìn)行擴(kuò)建,而就在此前SanDisk也公布了類似的計(jì)劃。
龐大的四日市工廠顯然在各個(gè)建筑物之間建起了地下軌道,而每新建一棟建筑、地鐵站點(diǎn)也將相應(yīng)增加。
SanDisk與東芝還共同建立了一家閃存代工合資企業(yè),其目的在于向下一代工藝技術(shù)過(guò)渡,也就是由目前的19納米制造工藝向10納米邁進(jìn)。
此次擴(kuò)建還將為NAND的更新?lián)Q代做好準(zhǔn)備,即通過(guò)垂直通道或者通孔實(shí)現(xiàn)各層連接,從而打造出3D芯片。這種方式能夠在繼續(xù)使用原有制造設(shè)備而無(wú)需引入新工藝技術(shù)的前提下,提升NAND芯片的容量限制。
一般說(shuō)來(lái),新的工藝技術(shù)意味著存儲(chǔ)單元更小、性能更低而且工作壽命更短。業(yè)界普遍認(rèn)為亞10納米級(jí)別NAND單元在性能及耐久性方面恐怕比較糟糕,而且目前尚未有合適的控制器技術(shù)來(lái)抵消這些負(fù)面因素。
但3D芯片設(shè)計(jì)思路的出現(xiàn)一方面讓NAND芯片擁有高于以往的存儲(chǔ)容量,同時(shí)提供可以接受的速度與耐用性,而產(chǎn)品成本也不至于面臨顯著提高。希望3D NAND能夠?yàn)閬?0納米工藝帶來(lái)容量突破的全新方向。
東芝閃存Fab 5工廠效果圖
我們也期待包括現(xiàn)代、美光及三星等企業(yè)在內(nèi)的其它閃存代工運(yùn)營(yíng)商盡早公布自己的工廠擴(kuò)建計(jì)劃。只要NAND還未出現(xiàn)供過(guò)于求的問(wèn)題,他們就能夠繼續(xù)保持旺盛的盈利勢(shì)頭。
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